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活性氧化鎂中活性形成基理

香港正版抓码王111159-香港正版抓码王彩图-111159com码王   活性氧化鎂的比面積較大,是制備高功能精細無機材料、電子元件、油墨、毒害氣體吸附劑等的重要原料。活性氧化鎂的生產工藝與輕質氧化鎂基本相同,主要是所控制的工藝條件有差別。生產方法主要有:白云石碳訖法、鹵水一氨法、鹵水~碳酸鍍法等。此外,按照原料、操作方法和對產品指標要求的不同,還可以采取下述一些工藝,如氣相法、醇鹽水法、均勻淡淀法、直接沉淀法、溶膠一凝膠法、固相法、噴霧熱解法等。

  活性對于一些材料來說確實起到了至關緊要的作用,因此,在這里給我們來了解了解關于活性氧化鎂的三個形成基理:
  1.活性氧化鎂的形成:菱鎂礦石在窯爐的煅燒過程中,由于技術等原因造成礦石煅燒的溫度不同,當溫度達到400-600攝氏度時,其內部結構疏松,晶體間孔隙最高,氧化鎂呈現最高的活性。
   2.當煅燒溫度達到750-850攝氏度時,其晶體間孔隙率下降,達到鎂水泥反應的最佳范圍,活性適中。當煅燒溫度大于900-1000攝氏度時,形成 過火氧化鎂,其活性很低甚至沒有活性。在一定活性范圍內,高活性者制品質量好,低活性者制品質量差,但欠火氧化鎂并非如此,它的活性越高,反應越激烈,放 熱越集中,制品質量反而越差,容易開裂且強度不高。
  3.活性氧化鎂也就是具有水化能力的氧化鎂。


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